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为让大家对金相制样设备有一个更清晰的认识，苏州费马小编今天特意整理了金相制样中磨抛这一工序常见的几种抛光方法，供大家参考：
一、机械抛光：
在专门的抛光机上进行抛光。
机械抛光主要分为两个步骤：粗抛和精抛。
粗抛：目的是除去磨光的变形层。
以往粗抛常用的磨料是粒度为10-20μm的α-al2o3、cr2o3或fe2o3，加水配成悬浮液使用。目前，人造金刚石磨料已逐渐取代了氧化铝等磨料，因其具有以下优点：
1)与氧化铝等相比，粒度小得多的金刚石磨粒，抛光速率要大得多，例如4~8μm金刚石磨粒的抛光速率与10~20μm氧化铝或碳化硅的抛光速率相近；
2)表面变形层较浅；
3)抛光质量好。
精抛：又称终抛，目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光损伤减少到低。常用的精抛磨料为mgo及γ-al2o3，其中mgo的抛光效果好，但抛光效率低，且不易掌握；γ-al2o3的抛光速率高，且易于掌握。
二、电解抛光：
利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光亮的抛光方法。
电解抛光用不锈钢作为阴极，被抛光的试样作为阳极，容器中盛放电解液，当接通电流后，试样的金属离子在溶液中发生溶解，在一定电解的条件下，试样表面微凸部分的溶解比凹陷处来得快，从而逐渐使试样表面有粗糙变平坦光亮。
三、化学抛光：
利用化学溶解作用得到光滑的抛光表面。
将试样浸在化学抛光液中，进行适当的搅动或用棉花擦试，一段时间之后即可得到光亮的表面。化学抛光兼有化学腐蚀的作用，能显示金相组织，抛光后可直接在显微镜下观察。
化学抛光操作简单，成本低廉，不需要特别的仪器设备，对原来试样表面的光洁度要求也不高。
化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同。一般为混合酸液。常用的酸类有：正、、酸、、及酸；为了增加金属表面的活性以利于化学抛光的进行。化学抛光液经使用后，溶液内金属离子增多，抛光作用减弱，需经常更换。
在专门的抛光机上进行抛光。
机械抛光主要分为两个步骤：粗抛和精抛。
粗抛：目的是除去磨光的变形层。
以往粗抛常用的磨料是粒度为10-20μm的α-al2o3、cr2o3或fe2o3，加水配成悬浮液使用。目前，人造金刚石磨料已逐渐取代了氧化铝等磨料，因其具有以下优点：
1)与氧化铝等相比，粒度小得多的金刚石磨粒，抛光速率要大得多，例如4~8μm金刚石磨粒的抛光速率与10~20μm氧化铝或碳化硅的抛光速率相近；
2)表面变形层较浅；
3)抛光质量好。
精抛：又称终抛，目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光损伤减少到低。常用的精抛磨料为mgo及γ-al2o3，其中mgo的抛光效果好，但抛光效率低，且不易掌握；γ-al2o3的抛光速率高，且易于掌握。
二、电解抛光：
利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光亮的抛光方法。
电解抛光用不锈钢作为阴极，被抛光的试样作为阳极，容器中盛放电解液，当接通电流后，试样的金属离子在溶液中发生溶解，在一定电解的条件下，试样表面微凸部分的溶解比凹陷处来得快，从而逐渐使试样表面有粗糙变平坦光亮。
三、化学抛光：
利用化学溶解作用得到光滑的抛光表面。
将试样浸在化学抛光液中，进行适当的搅动或用棉花擦试，一段时间之后即可得到光亮的表面。化学抛光兼有化学腐蚀的作用，能显示金相组织，抛光后可直接在显微镜下观察。
化学抛光操作简单，成本低廉，不需要特别的仪器设备，对原来试样表面的光洁度要求也不高。
化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同。一般为混合酸液。常用的酸类有：正、、酸、、及酸；为了增加金属表面的活性以利于化学抛光的进行。化学抛光液经使用后，溶液内金属离子增多，抛光作用减弱，需经常更换。
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